年产1000吨三氟化氮项⽬（特⽓⾏业纯度99.996%)

三氟化氮（Nitrogen Trifluoride），化学式NF3，是⼀种强氧化剂。作为⼀种重要的⼯业特种⽓体，具有⼔泛的具有⼔泛的具有⼔泛的具有⼔泛的具有⼔泛的具有⼔泛的具有⼔泛的具弔
在微电⼦⼯业中，三氟化氮是⼀种优良的等离⼦蚀刻⽓体，在半导体芯⽚杀、平显⽰器、光纤、光伏电池等制造领域，三氟化氮主要⽤作等离⼦蚀刻⽓体咔清洗剂。它还可以⽤于⾼能化学激光器，通过与氢反应在瞬间放出⼤量热现定应⽤。三氟化氮还可⽤作⾼能燃料，并且在⽕箭发射中作为氧化剂和推进剂。

Nitrogen trifluorida, formula kimia NF3, adalah agen pengoksidaan yang kuat. Sebagai gas khas perindustrian yang penting, ia mempunyai pelbagai aplikasi.
Dalam industri mikroelektronik, nitrogen trifluorida ialah gas etsa plasma yang sangat baik; Dalam cip semikonduktor, paparan panel rata, gentian optik, sel fotovoltaik dan bidang pembuatan lain, nitrogen trifluorida digunakan terutamanya sebagai gas etsa plasma dan agen pembersih rongga tindak balas.
Ia juga boleh digunakan dalam laser kimia bertenaga tinggi untuk mencapai penggunaannya dengan bertindak balas dengan hidrogen untuk mengeluarkan sejumlah besar haba dalam sekelip mata. Nitrogen trifluorida juga digunakan sebagai bahan api bertenaga tinggi dan sebagai pengoksida dan propelan dalam pelancaran roket.